近日，致真精密設(shè)備（杭州）有限公司正式開業(yè)，五十余位產(chǎn)、學(xué)、研、投代表齊聚杭州，共同見證國產(chǎn)高端半導(dǎo)體裝備企業(yè)長三角戰(zhàn)略布局的跨越式突破。依托國際領(lǐng)先的0.1nm級薄膜沉積控制技術(shù)與完全自主知識產(chǎn)權(quán)的設(shè)備架構(gòu)，這家技術(shù)企業(yè)正以硬核科技為產(chǎn)業(yè)鏈自主可控注入強心劑。
2018年，致真精密設(shè)備有限公司（以下簡稱“致真設(shè)備”）團隊向納米級薄膜沉積技術(shù)發(fā)起攻堅。歷時三年晝夜攻關(guān)，首臺國產(chǎn)單原子層精度磁控濺射設(shè)備于2021年橫空出世——0.1nm沉積精度、±2%薄膜均勻性的實測數(shù)據(jù)，達到國際頂尖水平。
2021年5月14日，合肥致真精密設(shè)備有限公司應(yīng)運而生。開啟從原理樣機研制、實驗室設(shè)備開發(fā)到量產(chǎn)機型落地的三級跨越。四年間，產(chǎn)品線快速覆蓋4-12英寸晶圓制造工藝，在航天芯片、量子器件、新型存儲等領(lǐng)域累計替代進口設(shè)備超百臺，成為國家重點工程的“裝備基石”。
目前，致真設(shè)備已形成產(chǎn)業(yè)級薄膜制備設(shè)備、科研級薄膜制備設(shè)備、真空傳輸平臺、超高真空零配件四大產(chǎn)品矩陣。其中，致真設(shè)備自主研發(fā)生產(chǎn)的產(chǎn)業(yè)級薄膜制備設(shè)備，主要包含一批針對企業(yè)中試線和產(chǎn)線研發(fā)的磁控濺射設(shè)備。該系列設(shè)備性能高、效率高、成本低、穩(wěn)定可靠，可實現(xiàn)8-12英寸基底上納米級材料的生產(chǎn)制備需求，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓制造、新型存儲器、新型顯示、新能源等領(lǐng)域，能夠有效滿足生產(chǎn)級和量產(chǎn)級的薄膜制備需求。
為進一步強化產(chǎn)業(yè)級設(shè)備體系的實力，致真設(shè)備12英寸裝備杭州生產(chǎn)基地已正式投產(chǎn)。該基地將顯著提升公司在大尺寸、高產(chǎn)能薄膜沉積裝備領(lǐng)域的研發(fā)與制造能力。目前，公司研發(fā)和生產(chǎn)的面向新型存儲器制備的12英寸薄膜沉積系統(tǒng)，已成功導(dǎo)入國內(nèi)頭部半導(dǎo)體生產(chǎn)企業(yè)，用于量產(chǎn)線關(guān)鍵膜層沉積。
致真設(shè)備自主研發(fā)生產(chǎn)的科研級薄膜制備設(shè)備，主要應(yīng)用于4英寸基底鍍膜。產(chǎn)品線涵蓋磁控濺射設(shè)備、電子束蒸發(fā)設(shè)備、分子束外延設(shè)備和脈沖激光沉積設(shè)備等，可滿足量子材料、二維材料、超導(dǎo)薄膜、光電功能層等前沿領(lǐng)域的精密鍍膜需求，為新型器件原型開發(fā)、小批量試制及工藝迭代提供高效靈活的研發(fā)平臺。
此次開業(yè)的杭州子公司，被致真設(shè)備董事長程厚義定位為“長三角12英寸集成電路裝備創(chuàng)新引擎”，“選擇落戶杭州，是公司戰(zhàn)略布局的重要一步。杭州公司的成立，標志著我們12英寸產(chǎn)業(yè)化設(shè)備的研制邁向新高地。將進一步提升致真設(shè)備在華東地區(qū)的服務(wù)能力與技術(shù)支撐，深化與杭州北航國新院、自旋芯片與技術(shù)全國重點實驗室，以及杭州本地合作伙伴的協(xié)同創(chuàng)新，為客戶提供更高效、更完備的解決方案?！?/p>
致真設(shè)備以杭州公司啟航為新起點，未來，依托長三角世界級產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢，致真設(shè)備將打造具有全球競爭力的薄膜沉積技術(shù)高地，實現(xiàn)關(guān)鍵裝備的完全自主可控。通過構(gòu)建“產(chǎn)學(xué)研用”深度融合的創(chuàng)新生態(tài)，致真設(shè)備正在走出一條跨越式發(fā)展之路。
